六方氮化硼薄膜的化学气相沉积工艺研究
MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF HEXGONAL BORON NITRIDE FILMS
第1章 绪论
1.1 氮化硼的结构、性质及应用
1.2 氮化硼薄膜的制备方法
1.3 氮化硼薄膜制备中存在的问题
1.4 本课题的研究目的和意义
1.5 本课题的研究内容
第2章 微波等离子体化学气相沉积系统
2.1 等离子体概念及其性质
2.2 微波等离子体产生原理与机制
2.3 微波等离子体特点及其应用
2.4 微波等离子体化学气相沉积系统
第3章 六方氮化硼薄膜的化学气相沉积
3.1 实验方法
3.2 氮化硼薄膜的表征方法
3.3 实验规程
第4章 实验结果与分析
4.1 不同衬底材料对氮化硼薄膜沉积的影响
4.2 衬底材料预处理对氮化硼薄膜沉积的影响
4.3 微波功率对氮化硼薄膜沉积的影响
4.4 生长时间对氮化硼薄膜沉积的影响
4.5 气源成分对氮化硼薄膜沉积的影响
4.6 本章小结
第5章 形貌与结构讨论
5.1 薄膜的形貌结构特征
5.2 断面的结构与薄膜的生长速率
5.3 原子分辨的显微结构特征
5.4 本章小结
结论
参考文献
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致谢