封面
中文摘要
英文摘要
目录
第1章 绪论
1.1 课题研究的背景和意义
1.2 氧化铝和碳化硅简介
1.3 等离子体及干法蚀刻技术简介
1.4 氧化铝干法蚀刻的研究进展
1.5 碳化硅干法蚀刻的研究进展
1.6 国内外研究现状分析
1.7 本课题主要研究内容
第2章 实验材料与实验方法
2.1 实验药品及材料
2.2 实验仪器及表征方法
2.3 实验方法
2.4 实验方案流程
第3章 等离子体发生器腔体等离子体均匀性研究
3.1 利用石墨为研究对象进行均匀性研究
3.2 利用云母为研究对象进行均匀性研究
3.3 本章小结
第4章 等离子处理对Al2O3表面结构的影响作用研究
4.1 低功率等离子体处理对Al2O3表面结构的影响作用研究
4.2 高功率等离子处理对Al2O3表面结构的影响作用研究
4.3 高温退火处理对Al2O3表面结构的影响作用研究
4.4 等离子处理影响Al2O3表面结构的机理探讨
4.5 本章小结
第5章 等离子体处理对SiC表面结构影响作用的初步研究
5.1 功率的影响
5.2 辐照时间的影响
5.3 间歇辐照的影响
5.4 后退火对等离子体处理的SiC表面结构的影响作用研究
5.5 本章小结
结论
参考文献
声明
致谢