晶态氮化碳薄膜沉积及其生长机理研究

摘要

本论文采用PE-PLD技术和PE-CVD技术，以Si基片为衬底对晶态CN薄膜制备进行了实验探索，主要探讨不同工艺条件和CN化合物薄膜的结构特性之间的关系，研究晶态Si基CN薄膜的生长机理。

目录

摘要

第一章 绪论

第二章 碳氮化合物薄膜的脉冲激光沉积

第三章 碳氮化合物薄膜的辉光放电等离子体辅助化学气相沉积

第四章 PE-CVD氮化碳薄膜过程的光学发射谱研究

第五章 Si基表面碳氮化合物薄膜的生长机理研究

结束语

参考文献

致谢