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基于表面势的非晶氧化锌薄膜晶体管漏电流模型的研究

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第一章 绪论

1.1 研究背景

1.2 a-MOS材料的介绍与制备技术

1.3 a-MOS TFTs的特性

1.4 ZnO TFTs模型的研究现状

1.5 主要研究内容及其意义

1.6 本章小结

第二章 a-ZnO TFTs表面势的非迭代算法

2.1 引言

2.2 a-ZnO TFTs的结构

2.3 基于不同态密度分布参数的氧化锌陷阱态密度

2.4 a-ZnO TFTs的表面势求解

2.5 a-ZnO TFTs表面势的解析求解

2.6 a-ZnO TFTs表面势数值解与解析解的误差分析

2.7 仿真结果与讨论

2.8 本章小结

第三章 基于表面势的a-ZnO TFTs漏电流模型

3.1 引言

3.2 a-ZnO TFTs迁移率

3.3 漏电流模型的建立

3.4 仿真结果与实验讨论

3.5 本章小结

第四章 a-ZnO TFTs漏电流的幂律函数和有效沟道迁移率研究

4.1 引言

4.2 幂律函数迁移率分析

4.3 有效沟道迁移率推导

4.4 基于幂律函数与有效沟道迁移率的漏电流方程

4.5 仿真实验与结果

4.6 本章小结

结论

参考文献

攻读硕士学位期间取得的研究成果

后记

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摘要

非晶氧化锌薄膜晶体管(a-ZnO TFTs)在有源矩阵液晶显示(AMLCD)器件、固体图像传感器、化学传感器等应用中发挥越来越重要的作用。由于a-ZnO器件较氢化非晶硅(a-Si:H)器件呈现出更复杂的电学特性,而且 a-ZnO器件比 a-Si:H器件具有更高的迁移率;因此,合理地构建a-ZnO TFTs的物理模型也变得越来越重要,特别是阐明a-ZnO TFTs漏电流的物理机制,给出与器件特性相一致的函数关系,可为 a-ZnO TFTs显示器件的制备和电路仿真提供理论依据。
  本文的研究目标是详细地对a-ZnO TFTs的物理机制进行系统研究,并在对a-ZnO TFTs迁移率讨论的基础上,基于表面势对 a-ZnO TFTs的漏电流特性建立紧凑模型,并使该模型具备嵌入电路仿真器的条件。
  基于泊松方程和高斯定理,采用非迭代算法,在考虑 a-ZnO TFTs带隙能态的指数带尾态和深能态的完整分布条件下,解析地建立了a-ZnO TFTs的表面势紧凑模型。本文的表面势解析求解,是根据数学变换和Lambert W函数,采用有效电荷密度方法,建立a-ZnO TFTs表面势的一种非迭代求解新算法。与数值迭代算法的计算结果进行比较,该表面势解析算法的绝对误差低至10-5 V数量级,且提高了计算效率;此算法避免了迭代求解,可有效减少仿真时间,为模型嵌入电路仿真器提供了实现条件。
  基于上述非迭代表面势算法,可以建立 a-ZnO TFTs的漏电流方程。通过与不同漏源电压和栅源电压下 a-ZnO TFTs器件的实验数据进行对比,得出漏电流模型的输出特性与转移特性曲线,进而验证了本文漏电流模型的有效性和正确性。
  此外,为进一步研究 a-ZnO TFTs的漏电流特性,本文通过对幂律函数迁移率的分析和对有效沟道迁移率的推导,以及对这两种迁移率下器件漏电流方程的误差分析,得出适用于本文漏电流模型的最优迁移率方程。
  综上所述,本文提出的a-ZnO TFTs直流模型,是以a-ZnO TFTs工作的物理机制作为基础,并以表面势为函数的方程进行表征。模型参数与器件参数之间的关系简单,模型能够依据现有实验数据进行较好的拟合;模型需要的计算量少,模型的数学表达式及其一阶导数连续,因此可满足嵌入电路仿真器的条件。

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