第一章 绪论
1.1 课题研究背景及意义
1.2 国内外光刻技术研究现状及成果
1.2.1 国外光刻技术现状
1.2.2国内光刻技术现状
1.3论文主要研究内容及其可行性
1.3.1研究内容
1.3.2关键问题
1.3.3可行性分析
第二章 成像系统设计及工艺参数
2.1 投影成像系统
2.1.1标量模型
2.1.2矢量模型
2.1.3基于分层媒介的矢量模型
2.2 工艺参数
第三章 反向光刻模型设计
3.1 反向光刻算法的简介
3.2 基于模型的反向光刻算法
3.3 基于规则的反向光刻算法
3.4 本章小结
第四章 算法选择及其设计
4.1梯度下降法
4.2基于梯度的算法变形
4.3基于水平集的半隐式更新规则
第五章 结果及分析
5.1.1投影成像对比
5.1.2 逆优化对比
5.2.1投影成像对比
5.2.2 逆优化对比
5.3算法对比及工艺参数
5.3.1 Adam算法和SGD算法对比
5.3.2 基于工艺参数的逆优化算法对比
5.4 SMO算法与MO算法对比
5.5 基于水平集的半隐式优化算法
总结与展望
参考文献
攻读硕士学位期间发表论文
声明
致谢
