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第一章绪论
§1.1微机电系统简介
§1.2现代微细加工技术
1.2.1基本的微细加工过程
1.2.2体硅的微加工
1.2.3硅表面微加工技术
1.2.4 LIGA技术
1.2.5高能粒子束直写技术
1.2.6电火花微加工技术
1.2.7电化学在微细加工中的应用
§1.3约束刻蚀剂层技术(CELT)的简介
§1.4本论文工作的设想与目标
参考文献
第二章实验方法与仪器
§2.1试剂与被加工材料
2.1.1试剂
2.1.2材料
2.1.3靶材
§2.2模板(工作电极)的制作
2.2.1微圆柱电极的制备
2.2.2复杂三维Pt-Ir模板的制备与连接
2.2.3复杂硅基模板的制备、连接与包封
2.2.4被加工的基底的处理
§2.3电解池
§2.4超精密电化学微加工系统
2.4.1仪器的组成及其性能
2.4.2电化学微加工的基本步骤
§2.5微波等离子体化学增强化学气相沉积系统
§2.6表征方法
2.6.1金相显微镜
2.6.2激光扫描共聚焦显微镜
2.6.3扫描电子显微镜
参考文献
第三章CELT用于Ni-Ti合金表面三维微加工
§3.1刻蚀体系的选择
§3.2刻蚀体系的电化学研究
3.2.1溶液的pH值NaNO2的电化学行为影响
3.2.2溶液中的F-对NaNO2的电化学行为影响
§3.3采用微圆柱电极作为模板研究不同体系的刻蚀分辨率
§3.4复杂三维图形的复制加工
§3.5本章小结
参考文献
第四章CELT用于熔融石英表面三维微加工
§4.1石英微加工的主要技术
§4.2 HF基溶液刻蚀SiO2的机理
§4.3微圆柱电极作为模板的刻蚀实验
§4.4复杂三维模板的复制加工
§4.5刻蚀速度与刻蚀分辨率的关系和以及使用脉冲电位模式的原因
§4.6本章小结
参考文献
第五章CELT技术应用于ZnO纳米线阵列微加工的初探
§5.1研究背景
§5.2微波增强化学气相沉积(PECVD)法制备ZnO纳米线
5.2.1空气流速对制备的ZnO纳米线形貌的影响
5.2.2气路对硅片上不同位置所制备的ZnO形貌的影响
5.2.3 Zn粉量、硅片的大小对ZnO形貌的影响
§5.3 CELT技术应用于ZnO纳米线阵列微加工的初探
§5.4本章小结
参考文献
作者攻读硕士学位期间发表的论文
致谢