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声明
1绪 论
1.1自旋电子学材料与器件
1.2半金属材料与稀磁半导体
1.3Ⅲ族N化物基稀磁半导体材料
1.3.1Ⅲ族N化物的性质及用途
1.3.2Ⅲ族N化物稀磁半导体的研究背景及新进展
1.4本文研究的目的和内容
2密度泛函理论及计算软件简介
2.1引言
2.2密度泛函理论
2.2.1 Hobenberg-Kohn定理
2.2.2 Kohn-Sham方程
2.2.3局域密度近似(LDA)和广义梯度近似(GGA)
2.3 VASP简介
2.3.1 VASP程序相关理论
2.3.2主要输入文件和输出文件
2.3.3 VASP的主要计算功能
2.4本章小结
3 Cr、Mn掺杂AlN的第一性原理研究
3.1引言
3.2计算方法和模型
3.3计算结果与分析
3.3.1 AlN的能带结构和态密度分析
3.3.2 Cr、Mn掺杂对晶格结构的影响
3.3.3 Cr、Mn掺杂对AlN磁电性能的影响
3.4本章小结
4 Cr、Mn掺杂GaN的第一性原理研究
4.1引言
4.2计算方法和模型
4.3计算结果与分析
4.3.1 GaN的能带结构和态密度分析
4.3.2 Cr、Mn掺杂对GaN晶格结构的影响
4.3.3 Cr、Mn掺杂对GaN磁电性能的影响
4.4各种掺杂结果的比较分析
4.4.1 Cr(Mn)-GaN和Cr(Mn)-AIN的比较分析
4.4.2 Cr-Al(Ga)N和Mn-A1(Ga)N的比较分析
4.4.3掺杂浓度与半金属能隙的关系
4.5本章小结
5结论与展望
5.1主要结论
5.2后续研究工作展望
致 谢
参考文献
附录:作者在攻读学位期间发表的论文目录