Department of Chemical Engineering, University of Florida, Gainesville, FL, 32611, USA;
LISE, UPR 15 du CNRS, Universite P. et M. Curie, CP 133, 4 Place Jussieu, 75252 Paris cedex 05 France;
机译:表面现象对旋转圆盘电极阻抗响应的影响
机译:磁盘电极电位分布和电流的磁场控制
机译:镶嵌圆盘电极上基于扩散限制计时电流法的可逆电极反应的阻抗谱响应
机译:非均匀电流和潜在分布对磁盘电极阻抗响应的影响
机译:MHD磁盘生成器中的电流分布和不均匀性影响。
机译:细胞间裂隙对多纤维制剂中电位和电流分布的影响。
机译:均相反应对转盘电极阻抗响应的影响
机译:GaLVaNIC腐蚀的数学研究第四部分。电解质厚度的影响使用极化参数确定共振电极的电位和电流分布