Toin University of Yokohama, Department of Biomedical Engineering, 1614 Kurogane-cho, Aoba-ku, Yokohama, Kanagawa, 225-8502, Japan;
机译:化学溶液浸渗混合沉积技术制备的低温处理Pb(Zr,Ti)O_3厚膜的介电和压电性能增强
机译:铝诱导结晶的多晶硅膜:生长工艺与硅沉积方法
机译:通过有意沉积后氢掺杂改善多晶ZnO薄膜的电稳定性
机译:用过氧化氢预处理通过预处理方法改变压电多晶膜的沉积过程 - 通过预处理预处理
机译:压电氧化锌薄膜的反应溅射沉积:加工,结构和性能相关。
机译:Cu(Ga)Se2薄膜铟溴化铟溴化铟脱沉铬酸盐后重结晶处理分析
机译:脉冲激光沉积中超混晶金刚石/氢化非晶碳复合膜沉积过程的时间分辨观察