【24h】

Simple fabrication of high density quantum dot arrays using anodic aluminum oxide mask

机译:使用阳极氧化铝掩模简单地制造高密度量子点阵列

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摘要

We fabricated quantum dot arrays using anodic alumina mask. We grew an alumina template on Si wafers by two-step anodization. The porous alumina template thus grown is used as a mask for metal deposition, After thermal evaporation and removal of the mask, we fabricated the quantum dot arrarys on a Si substrate. Using this template-assisted method we obtained a high density array of quantum dots in a large scale. These quantum dots have a narrow size distribution which can be easily controlled by a pore widening of templates from 20 to 60 nm.
机译:我们使用阳极氧化铝掩模制造了量子点阵列。我们通过两步阳极氧化在Si晶圆上生长了氧化铝模板。这样生长的多孔氧化铝模板用作金属沉积的掩模。在热蒸发和去除掩模之后,我们在Si衬底上制造了量子点阵列。使用这种模板辅助方法,我们大规模地获得了高密度的量子点阵列。这些量子点具有窄的尺寸分布,可以通过将模板的孔径从20扩展到60 nm来轻松控制。

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