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Quantum dot array and quantum dot superlattice fabrication method

机译:量子点阵列和量子点超晶格制造方法

摘要

The present invention includes at least a step of (a) providing a crystalline semiconductor substrate surface, (b) depositing quantum dots on the substrate surface by sequential ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method, A method for producing a dot array is provided. The above process can be repeated to create a quantum dot superlattice structure.
机译:本发明至少包括以下步骤:(a)提供晶体半导体衬底表面,(b)通过顺序离子层吸附和反应(SILAR)方法在衬底表面上沉积量子点,提供了一种制造点阵列的方法。 。可以重复上述过程以创建量子点超晶格结构。

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