Semiconductor RD Center, Samsung Electronics Co.Ltd., San#24, Nongseo-Ri, Kiheung-Eub, Youngin-City, Kyunggi-Do, 449-771, Korea;
机译:用于亚纳米表面处理的化学机械平面化(CMP)的台阶高度去除机制
机译:用于化学机械平面化(CMP)的分析凹陷和台阶高度减小模型
机译:用于化学机械平面化(CMP)的分析凹陷和台阶高度减小模型
机译:通过最小化化学机械平面化(CMP)中的台阶高度不均匀性来提高产量
机译:女性人群的心率和RPE差异具有8'和10'的步高以及低强度与高强度ALL OUT StepTM编排
机译:成人四年随访期间每日步数体重指数和腰高比的变化:年轻芬兰人的心血管风险
机译:使用步骤测试估算消防员的最大好氧能力;具有高度可调步骤的案例研究