Institute fuer Werkstcffe der Elektrotechnik-II, RWTH Aachen, Germany;
机译:退火温度对溅射Ba_(0.9)Sr_(0.1)TiO_3薄膜的微观结构,光电性能的影响
机译:(Ba,Sr_)RuO_3底部电极退火对(Ba,Sr)TiO_3薄膜电性能的影响
机译:用于MIM电容器的Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜后退火后改善的电性能
机译:不同退火程序对CSD衍生(BA,SR)TiO {Sub} 3薄膜的微观结构和电性能的影响
机译:镧镍氧化物电极上MOCVD衍生的钙钛矿铅锆(x)钛(1-x)氧(3)和铅(scan钽)(1-x)钛(x)氧(3)薄膜的微观结构和电性能缓冲硅
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:改性CSD对BaTiO3薄膜的微观结构和电学性能的影响