Department of Physics, University of Utah, Salt Lake City, UT 84112-0830;
机译:退火氢化a-Si / a-Ge多层和层中结构和氢键构型的演变
机译:退火氢化a-Si / a-Ge多层膜中的氢释放
机译:a-Si中光致缺陷的产生:H:亚稳缺陷或亚稳H原子?
机译:a-Si:H和a-Ge:H中的亚稳态缺陷:氢的作用
机译:氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的低能电动力学。
机译:氢在SiO2基电子器件中缺陷的挥发性行为中的作用
机译:A-Si中的亚稳态效果的显微镜起源:H和A-Si,GE,GE:H合金的深缺陷表征:最终的分包报告,1991年2月1日 - 1994年1月31日
机译:a-si:H中亚稳效应的微观起源和a-si,Ge:H合金中的深部缺陷表征。最终分包合同报告,1991年2月1日 - 1994年1月31日