Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, 91501-970 Porto Alegre, Brazil;
机译:Cu / Cu_2O多层膜的阳极氧化和阴极还原过程中质量和应力的变化
机译:NdBa2Cu3O7-δ超导薄膜中的柱状倾斜和涡旋应力:磁化临界电流密度测量
机译:Co / Pd复合调制多层膜在制造过程中的磁致伸缩和应力原位测量
机译:钼/硅多层和低应力多层的原位应力测量,用于极端紫外光刻
机译:硅晶片上溅射的硅化钨/硅多层薄膜的原位曲率和应力分析。
机译:以Cu的基质沉淀为导向的单晶NiFe-Cu纳米孔的磁化特性
机译:在电沉积过程中Cu / Co多层的原位磁化测量
机译:用于X射线天文光学应用的单层和多层膜的原位应力测量。