Department of Electrical and Computer Engineering, Nagoya Institute of Technology Gokiso, Showa, Nagoya 466-8555, JAPAN;
机译:研究在4°和8°离轴衬底上生长的氮掺杂4H-SiC外延层中的深能级
机译:Z1 / 2,EH5和Ci1深缺陷对n型4H-SiC外延层肖特基探测器性能的影响:α光谱和深能级瞬变光谱研究
机译:Z_(1/2),EH_5和CM深缺陷对n型4H-SiC外延层肖特基探测器性能的影响:阿尔法光谱和深能级瞬态光谱研究
机译:在朝向<1 100>倾斜的基材上生长的外延4H-SiC的深度水平研究
机译:恒定电容深层瞬态光谱法研究(100)和(311)B分子束表型砷化镓深层。
机译:乙烯化学气相沉积法生长压力对4H-SiC衬底上生长的外延石墨烯的影响
机译:(100)-/(001)取向的外延Pb(Mg1 / 3Nb2 / 3)O 3-PbTiO3薄膜的晶体结构,电学性质和机械响应,是在金属(100)cSrRuO3∥(100)SrTiO3衬底上生长的有机化学气相沉积