Iowa State University, Dept. of Electrical and Computer Engr., Ames, Iowa 50011, USA;
机译:高生长速率沉积的器件质量氢化非晶硅膜
机译:用于电阻随机存取存储器(RERAM)设备应用的PT / TiO2 / SiO2 / Si(SSTOP)基板上的无定形,锐钛矿和金红石相TiO2薄膜的生长
机译:具有受控氢密度的氢化非晶态氮化碳薄膜-在电场发射器件中的应用
机译:与(SI,GE)薄膜和装置的生长化学有关的一些考虑因素
机译:使用ECR-PECVD的氢化非晶硅锗薄膜和器件的高生长速率沉积。
机译:在高度c轴取向的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜中具有超低应变滞后的大压电应变并且在非晶玻璃基板上呈柱状生长
机译:使用ECR-PECVD的氢化非晶硅锗薄膜和器件的高生长速率沉积
机译:用ECR-pECVD技术高效生长水解非晶硅锗薄膜和器件