Advanced Technology Research Center, Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., 1-8-1 Sachiura, Kanazawa-Ku, Yokohama 236-8515, Japan;
机译:n型GaN半导体上外延LiNbO_3铁电薄膜的集成和电学性质
机译:磁控溅射重掺杂硅靶材制备的掺硼和磷掺杂的微晶硅薄膜的电性能
机译:氢对氢气反应性射频磁控溅射制备类金刚石碳膜性能的影响
机译:通过脉冲激光沉积制备的超晶金刚石/氢化非晶碳复合膜N型电导率的氮化作用
机译:磷掺杂的n型和氢掺杂的p型CVD金刚石薄膜的光电研究。
机译:脉冲激光沉积沉积的Nb掺杂SrsnO3外延膜的电气和光学性能
机译:通过HF CVD法从氢气/甲醇气体混合物合成的多晶金刚石膜的电气性能和MOTT参数