【24h】

Fine-line Patterning of Transparent Ga-doped ZnO Thin Films by Wet-etching

机译:湿法刻蚀透明掺杂Ga的ZnO薄膜的细线构图

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摘要

Ga-doped ZnO (GZO) films have attracted significant recent attention as an alternative to the optically transparent electrodes made of indium tin oxide (TTO) currently used in electronic devices such as LCDs (1,2), touch-screens and solar cells.
机译:镓掺杂的ZnO(GZO)膜作为光学透明电极的替代品已引起了近期的广泛关注,该光学透明的电极目前是用于LCD(1,2),触摸屏和太阳能电池等电子设备中的铟锡氧化物(TTO)制成的。

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