University of California at Los Angeles, Electrical Engineering Department, USA;
机译:费米能级钉扎/钉扎对Ge / CoFeB和Ge / MgO / CoFeB结构中肖特基势垒高度和接触电阻的影响
机译:费米能级钉扎/钉扎对Ge / CoFeB和Ge / MgO / CoFeB结构中肖特基势垒高度和接触电阻的影响
机译:通过使用金属/氧化镍/硅触点的费米能级钉扎降低空穴的肖特基势垒高度
机译:使用单晶MgO的Ge Schottky触点的费米水平脱落
机译:单晶氧化铜的光电阈值,工作功能和本体费米能级的研究,以及单晶和多晶氧化铜-铜接触的光电特性。
机译:缺陷MoS2 /金属触点中占优势的电荷传输和费米能级固定
机译:使用外延生长的超薄MgO膜研究Ge肖特基结中费米能级钉扎的起源