Department of Chemical Engineering, University of Louisville Louisville, KY 40292, USA;
机译:使用HVPE生长的GaN体靶,通过激光分子束外延在蓝宝石(0001)上高度c轴取向生长GaN膜
机译:使用ECR-PEMOCVD在覆铜玻璃基板上低温生长高度c取向的GaN膜
机译:通过脉冲激光沉积在石英上生长c轴取向GaN膜
机译:熔融镓的GaN电影的自定向生长
机译:使用常规和五极外延生长工艺在氢(6)-碳化硅(0001)和硅(111)衬底上生长氮化镓和氮化铝镓薄膜。
机译:AlGaN / GaN金属-氧化物-半导体高电子迁移率晶体管中作为栅极电介质的氧化镓膜的原子层沉积
机译:使用HVpE生长的GaN体靶通过激光分子束外延在钴蓝(0001)上高度c轴取向生长GaN膜
机译:模拟氮化铝(alN)衬底上生长的氮化铝镓((al)GaN)薄膜的生长