Dept. of Microelectronics, Soochow University, Suzhou, 215006, China;
Dept. of Microelectronics, Soochow University, Suzhou, 215006, China;
Dept. of Microelectronics, Soochow University, Suzhou, 215006, China;
effective channel mobility; modeling; polycrystalline silicon; thin film transistors (TFTs);
机译:多晶硅薄膜晶体管亚阈值区中有效沟道迁移的Meyer-Neldel规则
机译:基于多项式有效通道迁移率的阈值以上电流模型,用于与Pao-Sah模型一致的未掺杂多晶硅薄膜晶体管
机译:基于频道电位的表面电位模型和基于基于DC通道 - 基于DC通道 - 基于直流通道的漏极电流模型,用于全耗尽的多Si薄膜晶体管,包括散装中的尾部和深度受体的陷阱状态
机译:多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFT)的迁移模型
机译:短沟道多晶硅薄膜晶体管的表征和建模。
机译:凸源/漏极(RSD)和垂直掺杂漏极(LDD)多Si薄膜晶体管
机译:错误的:通过镍硅化镍种子诱导的横向结晶进展P沟道底栅聚-SI薄膜晶体管