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Novel Fabrication Technology for Ultra-Compact Three-Dimensional MMICs

机译:超紧凑型三维MMIC的新型制造技术

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摘要

A novel interconnection technology has been developed for ultra-compact three-dimensional (3D) MMICs. A sophisticated 3D interconnection structu has been successfully fabricated using iductively-coupled-plasma etching with a double-layer mask. This technology enables us to realize an ultra-compact MMICs.
机译:已经针对超紧凑的3D(3D)MMIC开发了一种新颖的互连技术。先进的3D互连结构已成功使用带有双层掩膜的感应耦合等离子体蚀刻技术成功制造。这项技术使我们能够实现超紧凑的MMIC。

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