'MATI'-Tsiolkovsky Russian State University of Technology, Moscow, Russia;
polyimides; etching; ECR plasma; texture; profile angle; microbolometer; sacrificial layer;
机译:聚酰亚胺牺牲层和用于后表面微加工的新型材料
机译:使用AIN /条状图案的SiO_2牺牲层从Eco-GaN模板化学剥离工艺
机译:通过化学剥离工艺使用图案化氧化物牺牲层的薄膜GaN LED
机译:聚酰亚胺的血浆和化学处理在微生物摩擦处理中的牺牲层
机译:集成的实时研究可跟踪从浇铸到酰亚胺化的聚酰亚胺薄膜加工过程中的所有物理和化学变化。
机译:芯片绑定对通过热化学处理加工的AMS 6308钢齿轮齿表面壳体表面的参数
机译:具有乙二胺的聚酰亚胺电纺织纺织梭菌对生物医学应用的后处理化学处理
机译:暴露于DIII-D偏滤器等离子体表面沉积层的结构,化学成分,氢同位素捕获和释放过程的研究