Chartered Semiconductor Manufacturing 60 Woodlands Industrial Park D St.2, 738406, Singapore;
Mentor Graphics Corporation, 8005 SW Boeckman Rd., Wilsonville, OR 97070, USA;
lithography; flare; optical proximity correction; long-range proximity; CD;
机译:多级全芯片无网格路由及其在光学邻近校正中的应用
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:硅柱验证闪光模型及应用于远程邻近校正的实际芯片
机译:三维集成电路中的硅通孔电感:片上应用的建模与设计
机译:实验验证的转录因子结合位点模型在ChIP-Seq数据计算分析中的应用
机译:Studio应用了基于实数模型的验证和基于断言的混合信号验证。基于实数建模与断言的验证技术在混合信号电路设计中的研究与应用
机译:用于耀斑预测的剪切指数和mHD模型验证的观察到的耀斑参数的量化。半年度报告,1987年3月26日至9月26日,