Frantsevich Institute for Problems of Materials Science, 3 Krzhyzhanovsky str., 03680 Kiev, Ukraine;
机译:自蔓延高温合成制备的靶材的磁控溅射沉积的Ti-B-N,Ti-Cr-B-(N)和Cr-B-(N)涂层的结构和性能
机译:直流磁控溅射制备的(Ti,W,Cr)B_2涂层
机译:Zr和O对磁控溅射TiC _(0.5)+ ZrO _2和(Ti,Zr)C _(0.5)+ ZrO _2复合靶的磁控溅射沉积TiC(N)涂层结构和性能的影响
机译:在磁控溅射下形成高温纳米纤维状涂层结构,AlN-(Ti,Cr)B_2靶标
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:磁控溅射抗菌纳米结构钛涂层:从实验室规模到工业反应器
机译:反应磁控共溅射沉积Ti1-xAlxN涂层的组织和热稳定性