Integrated Optoelectronics and Microoptics Research Group, Physics Department, Kaiserslautern University of Technology, P.O. Box 3049, D-67653, Germany;
rnIntegrated Optoelectronics and Microoptics Research Group, Physics Department, Kaiserslautern University of Technology, P.O. Box 3049, D-67653, Germany;
rnIntegrated Optoelectronics and Microoptics Research Group, Physics Department, Kaiserslautern University of Technology, P.O. Box 3049, D-67653, Germany;
Surface roughness; dry-etching; self-masking; surface scattering; borosilicate glass; micro-masking; layer; ECR-RIE;
机译:干蚀刻过程中通过自动掩膜实现无光刻玻璃表面改性
机译:在Ar / CF_4-等离子体中通过无光刻反应离子刻蚀对玻璃表面进行改性,以控制扩散光散射
机译:等离子体织构硅的SiO_xF_y自掩膜层的元素演化及其在暴露于空气中的改性
机译:通过玻璃状蚀刻期间通过自掩模自由掩模无光谱表面改性
机译:聚合物表面改性:化学表面改性,逐层吸附和表面重建。
机译:在无光刻法制备的纳米种子表面上倾斜沉积的金纳米螺旋
机译:一种使用单阶段自我掩模方法在透射光栅表面上的抗反射纳米结构的制造
机译:表面化学修饰:钾对过渡金属晶体表面分子化学吸附的影响