【24h】

Nano-scale Patterning of Phospholipid Thin Films by Interferometric UV Lithography

机译:紫外紫外光刻技术对磷脂薄膜的纳米尺度构图

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Interferometric lithography is one of the techniques used to produce micro and nano-scale periodic patterns like gratings in polymers and other substrates of interest. In this work, holographic surface relief gratings are optically inscribed on spin coated azo-dye (NBD)-labeled phospholipid (phosphatidylcholine) thin films using a low-intensity (10 mW) 244 nm frequency-doubled Ar+ laser. A systematic study of growth and decay of phospholipid grating is reported.
机译:干涉光刻是用于产生微米和纳米级周期性图案(例如聚合物和其他感兴趣的基板中的光栅)的技术之一。在这项工作中,使用低强度(10 mW)244 nm倍频Ar +激光,将全息表面起伏光栅光学刻在旋涂的偶氮染料(NBD)标记的磷脂(磷脂酰胆碱)薄膜上。报道了对磷脂光栅的生长和衰减的系统研究。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号