机译:气相HF /蒸气热氧化硅膜蚀刻
机译:通过在二氧化硅上添加氧化Ha $(hbox {HfO} _ {2})$膜来增强金属-氧化物-半导体(MOS)隧道温度传感器的温度敏感性
机译:通过在二氧化硅上添加氧化Ha $(hbox {HfO} _ {2})$膜来增强金属-氧化物-半导体(MOS)隧道温度传感器的温度敏感性
机译:使用电化学传感器来控制含水HF加工浴水溶液中二氧化硅膜的蚀刻
机译:基于八氟环丁烷的等离子放电的特征,用于二氧化硅和低K介电薄膜的选择性刻蚀和处理。
机译:聚合物/富勒烯共混膜的选择性湿蚀刻用于表面和纳米形态控制的有机晶体管和灵敏度增强的气体传感器
机译:通过湿法蚀刻和电化学监测,通过湿法蚀刻和电化学监测在电化学介孔二氧化硅膜中的厚度控制
机译:用于微纳米和纳米光刻的二氧化硅的催化HF蒸气蚀刻