Center for Semiconductor RD, Semiconductor Company, Toshiba Corporation, 8, Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama, Japan;
机译:负偏置温度不稳定性对基于绝缘体上硅鳍的场效应晶体管的鳍宽度的依赖性研究
机译:改进了基于物理的分析,以在非常低的温度和漏极电压极化下区分闪烁噪声源
机译:(CH4)-C-12在nu(4)光谱区域中的多光谱分析:II。自展宽的半宽度,压力引起的位移,温度依赖性和管路混合
机译:用于散装 - FinFET闪烁噪声的翅片宽度和温度依赖性分析
机译:取决于Fin形状和TSV以及3D集成电路中背栅噪声耦合的FinFET电性能仿真。
机译:闪烁噪声光谱分析脑电信号:左右手运动想象的识别
机译:低温低噪声放大器的噪声温度与物理温度的关系