Faculty of Art and Design Univ. of Toyama 180 Futagami-machi Takaoka 933-8588 Japan;
NISP Lab NanoCenter University of Maryland College Park MD 20742-2831;
School of Science and Engineering Univ. of Toyama 3190 Gofuku Toyama 930-8555 Japan;
机译:差动泵浦共溅射法制备多层Cr(Al)N / SiO_x纳米复合涂层的结构
机译:差动泵浦共溅射Si衬底上制备Cr(Al)N / SiO_x薄膜的结构研究
机译:通过射频磁控旋转系统制备的Al掺杂ZnO透明导电膜的电气和光学性质
机译:共溅射In_2Ga_2ZnO_7和In_2O_3靶材制备的低电阻高透射率铟镓锌氧化物薄膜
机译:ITO薄膜的晶粒尺寸和厚度对薄层电阻和透射率的影响:TEM研究
机译:银掺杂对射频磁控共溅射系统制备ZnO薄膜的影响
机译:用DC反应磁控溅射技术制备的Ni0.5Co0.5Fe2O4纳米复合膜特性的影响参数