General Production Environment Division, Product Engineering Dept, Topcon Corporation, 75-1 Hasumuma-cho, Itabashi-ku, Tokyo, 174-8580, Japan;
DUV; 248 nm and 193 nm wavelength; transmittance; objective lens; optical lithography; inspection system;
机译:用于深紫外波长区域的光学系统中的透镜粘接技术
机译:负193 nm DUV抗蚀剂对45 nm节点的评估:光刻,蚀刻和植入过程中的降解动力学
机译:DUV激光照射在自燃合成的氧化铟锌膜的光学和电学中的作用
机译:用于DUV波长区域光学系统的镜片固井技术 - 通过DUV辐照选择光学水泥和降解评估 -
机译:使用光栅的光波分复用系统和网络中系统性能的提高。
机译:用于模拟光散射组织中血红蛋白和水的光谱学的最佳波长选择
机译:DUV激光光学模块内部流场的数值分析与优化
机译:用于高性能光信息网络的长波长(1.1-1.5微米)垂直腔面发射激光器和光开关的新型外延生长技术