Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association(EUVA), Wave Front Measurement Lab. C/O Nikon, 1-10-1, Asamizodai, Sagamihara city, Kanagawa, 228-0828, Japan;
interferometer; metrology; EUVL; shearing interferometer; calibration; DLSI; grating; diffraction;
机译:剪切干涉仪概念用于极端紫外光学元件的波长表征的实验研究
机译:用于极端紫外光刻的双光栅横向剪切干涉仪
机译:使用双光栅横向剪切干涉仪进行高精度波前分析
机译:用于EUV波前测量的横向剪切干涉仪中的系统误差的校准
机译:一种偏振横向剪切干涉仪及其在工程表面的机上误差测量中的应用。
机译:在传统系统nanotom®m中实现用于相衬计算机断层扫描的双光栅干涉仪
机译:用偏振剪切干涉仪测量光学器件的热弹性变形
机译:横向剪切干涉仪在同步辐射光学元件测量中的应用