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【24h】

Memory Effects in Single-Electron Nanostructures

机译:单电子纳米结构中的记忆效应

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摘要

We investigate the memory function at room temperature in devices based on quantum dots. By Low Pressure Chemical Vapour Deposition (LPCVD) we deposited Si dots embedded in SiO_2. On these devices flat band voltage shifts were well detected at low write voltages for write times of the order of milliseconds, and, furthermore, a plateau in the flat band voltage shift, maybe consequence of Coulomb blockade, was observed.
机译:我们研究基于量子点的设备在室温下的存储功能。通过低压化学气相沉积(LPCVD),我们沉积了嵌入SiO_2的Si点。在这些设备上,在低写入电压下,毫秒级的写入时间就可以很好地检测到平带电压偏移,此外,还观察到了平带电压偏移的平稳状态,可能是库仑阻塞的结果。

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