プラズマイオン注入·成膜(PBIID)法により作製したSi含有DLC膜の熱酸化安定性に関する研究

摘要

本研究ではプラズマイオン注入·成膜(PBIID)法を用いて，耐熱性の向上を目的にSiを添加したSi含有DLC膜を作製し，大気雰囲気中で熱処理を施した後，Si含有DLC膜の熱酸化安定性について検討した．また，Si含有量を変化させて，皮膜の構造に及ぼすSi含有量の影響についても調査した．