クローズドクリーンブースのドライ方式過酸化水素ガス除染手法の検証

摘要

無菌製剤（注射剤など）工場での充填·密封等の工程 に使われるクリーンブースに関し，近年，作業者のアク セスを物理的に遮断するクローズド系のクリーンブース (Closed-Clean Booth：以下C-CBと略す、閉鎖系アクセ ス制限バリアシステム)が普及しつつある。 C-CB内部は， Lot 切換え時などに定期的に除染（殺菌）するのが一般 的である。本研究では，除染剤としてガス状の過酸化水 素（以下，H2O2）を採用し， H2O2ガス濃度を上昇させ る工程の濃度シミュレーションを検討した。また，均一 に除染する実証試験を行った。