マイクロカプセル外表面でのシリカ薄膜形成にシラン修飾剤 が及ぼす影響

摘要

潜熱輸送に用いる相変化材料(PCM)内包シリカマイ クロカプセル(SMC)はPCM の管壁付着、結晶成長に よる管閉塞の抑制に有効である。SMC は中空構造を 有しており、その外殻シリカには細孔が存在する。こ の細孔を通して、PCM を中空部分に充填できる。し かし、内包されたPCM が潜熱輸送時にSMC の細孔 から放散するため、PCM 充填後に細孔をふさぐ必要 がある。細孔閉塞方法の1つとして、オルトけい酸テ トラエチル(TEOS)の加水分解によるSMC 外表面へ のSiO2膜形成があげられる。この方法では、SMC 外 表面だけでなく、溶液中でもSiO2の析出が進行する可 能性がある。本研究では、材料表面での選択的なSiO2 析出を促進できると報告されている3-アミノプロピル トリエトキシシラン(APTES)のSMC 表面への修飾 量がSMC 外表面上へのTEOS の加水分解によるSiO2 膜形成に及ぼす影響を検討した。