面不斉金属錯体を基盤とするホスフィン‐オレフィン配位子の合成と不斉触媒反応への応用

摘要

近年、新しい不斉配位子として、ホスフィン‐オレフィン配位子が注目を集めている。一方、当研究室では面不斉シクロペンタジエニルMn 錯体を基盤とするホスフィン‐オレフィン配位子3 の開発に成功している1。