マイクロ波アンテナへのDC パルス電圧印加による 表面波プラズマの電位制御

摘要

近年、フィルムを用いたフレキシブルな電子デバイスの実現に向け、高性能なガスバリア膜が求められている。プラズマCVD を用いてガスバリア膜を製造する場合、例えばフィルム搬送治具全体に負バイアスを印加し、イオン衝撃により膜を緻密化する手法がある。しかし、導電性基板を用いる場合、基板を介して機器が導通するため、装置が大型化かつ複雑化するという問題がある。そこで我々は、大面積かつ空間的に均一な長尺表面波プラズマを用い、マイクロ波アンテナへ正バイアスを印加することでプラズマ電位を上昇させ、基板へのイオン衝撃を強めることにより高品質なガスバリア成膜を目指している。今回、正バイアス印加時のプラズマ電位の制御を試みたので報告する。