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【24h】

高周波デバイス応用に向けた酸化ガリウムトランジスタ開発

机译:高频装置应用的氧化氧化物晶体管开发

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摘要

酸化ガリウム (Ga_2O_3)は、4.5 eVと非常に大きなバンドギャップに起因する物性から、現在パワーデバイス応用を目指した研究開発が盛hになってきている。しかしながら、その期待される応用分野は、パワーデバイスに限定されるものではなく、その他にも多岐に渡ると考えられる。現在、我々はパワーデバイス応用に向けたスイッチングデバイス開発とともに、無線通信デバイスとしての開発も同時に進めている。本講演では、Ga_2O_3の物性、材料的特徴について述べた後、パワーデバイスのみならず、Ga_2O_3トランジスタに適すると我々が考える高周波、極限環境(高温、放射線下など)エレクトロニクスといった応用分野について解説する。その後、現在までに我々のグループで開発した横型Ga_2O_3 MOSFETのDCデバイス特性、高周波デバイス特性、放射線耐性等について発表する。
机译:氧化镓(Ga_2O_3)具有当前旨在从物理性质由于4.5 EV和非常大的带隙功率器件应用的研究和开发。但是,预期的应用领域不限于功率器件,但被认为是各种各样的其他。目前,我们还开发了发展,无线通信设备,以及用于开关功率器件应用设备的开发。在本讲,描述物理性质和Ga_2O_3的材料特性后,它不仅是一种动力装置,但适用于GA_2O_3晶体管,我们将解释的应用,如高频,极限环境(例如高温,辐射场)电子是我们考虑的问题。此后,水平GA_2O_3 MOSFET的直流设备特征在我们的组,直流设备特性,高频器件特性,耐辐射性,等开发公布。

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