光照射とポリシラザン塗布膜による高ガスバリア膜 低温形成技術の開発

摘要

近年のモバイル機器の需要拡大に伴い、薄い、軽い、曲げられるといった特徴をもつフレキシブルデバイ スに注目が集まっている。フレキシブルデバイスには基板材料としてフレキシブル性をもつ有機フィルムが 使用される。しかし有機フィルムには、ガスバリア性が低いためにフレキシブルデバイスの素子材料である 液晶·有機 EL 発光体·有機半導体等が酸素·水蒸気により劣化すること、耐熱性が低いために高温での薄 膜形成に耐えられないといった問題点が挙げられる。また現行の薄膜作製法として、CVD 法、スパッタ法が 主流であるが、これらは高コスト、工程が複雑である。我々は、簡便かつ低コスト、低温での薄膜形成が可 能な光照射を利用した塗布法によるガスバリア薄膜形成技術の開発を検討している。本研究では、低圧水銀 ランプ(254, 185nm)とエキシマランプ(172nm)を用いて作製したガスバリアフィルムを分析·評価し、波長の 異なるランプによるガスバリア特性と薄膜構造の変化を調査した。