(S4·3-S065)単一イオンナノ加工法を用いて作製した高分子１次元ナノ構造体による基板表面修飾

摘要

単一イオンナノ加工法は、高エネルギーのイオンビーム、特に単一のイオン粒子飛跡に沿って固体高分子膜中で１次元ナノ構造体を簡便に作製する手法である。本研究では、上記手法を利用し、物質表面に直接高分子１次元ナノ構造体を形成し、基板表面の修飾?物性制御を試みた。また、高分子の膜厚、イオンビームの照射量を変えることにより、ナノ構造体のサイズ?数密度をそれぞれ制御し、Si基板上に形成されたナノ構造体の表面被覆率を定量的に評価した。