Mesoskopische Flustergaleriemodenresonatoren im sichtbaren Spektrum auf Basis von Silizium Mikrostrukturierung

摘要

Wir prasentieren ein neuartiges Verfahren zur Herstellung verschiedener optischer Mikroresonatoren auf Basis von Silizium-Mikrostrukturierung gefolgt von einer thermischen Oxidation zur Erzeugung einer Siliziumdioxid-Hulle. Dazu werden reaktive Plasmaatzprozesse genutzt, welche sehr geringe Oberflachenrauheiten erzeugen. Weiterhin wird ein Verfahren zur Glattung der Oberflachenrauheit der Mikroresonatoren vorgestellt, welches sehr gut skalierbar ist. Anschlie-Bend wird eine neuartige Methode zur Bestimmung des Gute-Faktors anhand des abgestrahlten Fernfelds vorgestellt.