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Verbesserter Herstellungsprozess fur dreidimensionale mikromechanische Sensoren aus SU-8-Fotoresist

机译:来自SU-8光刻胶的三维微机械传感器的改进制造过程

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摘要

Die technologischen Fortschritte im Bereich der Mikro- und Nanofertigung fur MEMS verlangen Messtechnik auf hochstem Niveau, insbesondere im Hinblick auf Prazision und Empfindlichkeit. Zu diesem Zweck werden am IMT hochempfindliche piezoresistive dreidimensionale Mikrokraftsensoren aus SU-8-Fotoresist fur die taktile Oberflachenvermessung entwickelt. Im Rahmen der vorgestellten Arbeit wird ein verbesserter Herstellungsprozess fur die dreidimensionalen mikromechanischen Sensoren mit doppelseitiger Strukturierung prasentiert. Die SU-8- Sensorstrukturen werden mittels UV-Lithographie und Beschichtungstechniken in Mehrlagentechnik prozessiert. Fur die Entwicklung des Herstellungsprozesses wurde, ausgehend von Opferschichten fur planare Strukturen, die Beschichtung einer Masterform im PECVD-Verfahren optimiert.
机译:MEMS微型和纳米生产领域的技术进步需要在最高水平处的测量技术,特别是关于精度和灵敏度。为此目的,开发了来自SU-8光致抗蚀剂的IMT高度敏感的压阻式三维微路传感器,用于触觉表面测量。在所提供的工作的上下文中,提出了一种具有双面结构的三维微机械传感器的改进的制造过程。 SU-8传感器结构通过UV光刻和多层技术的涂布技术处理。为了开发制造过程,优化了PECVD方法中的主形状的涂层,从受害层的平面结构开始。

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