Ti flint; microstructure; film density; adhesiveness;
机译:负基极低偏压对等离子体浸没离子注入和沉积合成的氟化非晶碳膜结构和性能的影响
机译:负偏置脉冲对基于等离子体的离子注入制备的a-C:H薄膜特性的影响
机译:负偏压对多电弧离子电镀沉积的Al-Ti-N膜微观结构和性能的影响
机译:阴性偏差对血浆碱结构对薄膜结构的影响及其粘附性
机译:二氧化硅和基于等离子体氮化的氧化物的pMOSFET的负偏置温度不稳定性所涉及的原子尺度缺陷。
机译:RF-ICP离子源增强的活性氮等离子体气氛引起的Ti-Al-N薄膜的微观结构和力学性能的变化
机译:通过同轴弧等离子体沉积在硬质合金基板上沉积在硬质合金基板上的沉积和机械性能的负偏差和机械性能