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ナノインプリント技術を用いた回折格子作製とその応用

机译:使用纳米压印技术及其应用衍射光栅制剂

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摘要

ナノインプリント技術を用いて回転回折格子を作製した.この技術により,回転回折格子に形成した回折格子パターンの回転中心と回転軸を挿入する貫通穴中心を高精度に一致させることが可能となる。これにより、これまでの職人による回転回折格子スケールの芯出し作業を必要としなくなる.本論文では作製した回転回折格子の評価及び,我々が開発中のMEMS エンコーダ用スケールとしての応用について述べる.2.構造と作製作製した回転回折格子をFig.1 に示す.直径12mm,厚さ0.6mm の円盤状の回転回折格子に,直径10.6mm の円周上に幅300μm,高さ0.4μm,3.2μm 周期の凹凸回折格子パターンと,中心に直径3mm の貫通穴を形成する.ナノインプリントには熱式と紫外線照射式があるが,本研究では熱式を用いて回折格子スケールを作製した.熱式はほとhどの樹脂材料に適用可能であり,材料の制限を受けにくい点で有用である.Fig.2 に回転回折格子作製の工程を示す.回転回折格子の材料には合成樹脂を用いた.金型のスタンパを低熱膨張率の石英ガラスにフォトリソグラフィ技術で形成した高さの凹凸の微細パターンを転写することにより作製する.このスタンパがピストンに張り付けられる.スタンパと,貫通穴を形成する内径打ち抜きパンチとには3μm のクリアランスを形成しておく.内径抜きダイと内径抜きパンチの上型と外径抜きパンチ兼内径抜きダイの下型とは四隅のガイドポストとガイドブッシュで高精度に位置決めする.ブランクの樹脂基板が外径抜きダイと内径抜きダイにより内径穴と外径が打ち抜かれると同時に,回折格子微細パターンが形成される.回折格子パターンの中心と貫通穴中心のずれは,最大クリアランス分の3μm 分発生する可能性がある.
机译:使用纳米压印技术生产旋转光栅。根据该技术,可以以高精度与形成在旋转光栅和旋转轴中的衍射光栅图案的旋转中心重合。这消除了以前的工匠对旋转光栅秤定心的需求。在本文中,我们描述了所产生的旋转光栅的评估和应用作为MEMS编码器的开发规模。图2.图1表示图1所示的结构和制造的旋转光栅。圆孔的宽度为300μm,高度为0.4μm,高度为0.4μm,高度为0.4μm,以及直径为12mm的盘形旋转光栅的3.2μm循环,厚度0.6mm,厚度为0.4μm,直径为3mm。形式。纳米视网窗具有热和紫外线照射型,但在该研究中,使用热配方使用衍射光栅秤。热形成适用于任何树脂材料,可用于难以接受物质限制。图2显示了旋转电网制造过程。使用合成树脂作为旋转光栅的材料。通过将通过光刻技术形成的高度的不均匀性传递到低热膨胀系数的石英玻璃来生产模具压模。该压模附着在活塞上。在压模和内径冲压冲头中形成3μm的间隙,形成通孔。内径和内径冲头的上模和外径冲头的下模和内径拉管芯的下部模具以高精度与四个角的引导柱和引导衬套定位。将空白的树脂基板同时冲出内径孔和内径管芯和外径,同时形成衍射光栅精细图案。衍射光栅图案和通孔中心的中心的偏差可能发生3μm的最大间隙。

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