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ガラス系材料用研磨スラリーの分散·凝集状態と研磨パッド表面の組み合わせの研磨能率への影響について

机译:玻璃基材料抛光浆料的分散与聚集状态及对抛光垫表面抛光能力的影响

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摘要

研磨メカニズム解明と研磨能率向上を図るため,筆者らはレーザ顕微鏡と大気圧走査型電子顕微鏡(ASEM)を用いた新しい湿式顕微鏡観察法を提案し,その有用性を確認したうえ,ガラス系材料用研磨スラリーに対し沈降特性,分散·凝集特性及び研磨特性の検討を行っている.これまでは複数種類の性質の異なった分散剤を用い,研磨スラリーの分散·凝集特性の制御及び研磨特性への影響を検討した結果,ヘキサメタ燐酸ナトリウム(HMP)の場合,添加率によってセリア砥粒の液中における分散·凝集状態が異なるパターンを示すことと,そのパターンが研磨能率と興味深い関係を示すことを報告した.今回は,この分散·凝集特性と研磨能率の関係の理由として,分散·凝集状態と研磨パッド表面の幾何学的特性の組み合わせによる影響を検討したので,報告する.
机译:为了消除在抛光机构和抛光效率的提高,作者提出使用激光显微镜和大气压力扫描电子显微镜(ASEM)一个新的湿显微镜观察方法,并确认它的实用性,以及用于基于玻璃的材料的用沉降特性,分散,聚集特性和抛光特性检查抛光浆料。到目前为止,使用多种类型特性中的不同的分散剂和检查抛光浆料和抛光性能的影响的分散和聚集特性,在六偏磷酸钠(HMP)的情况下,氧化铈研磨剂取决于加入速率解剖晶粒和在分散和聚合的解决方案中聚集报告,模式表明磨料率和有趣的关系。这一次,我们检查了抛光垫表面的分散,聚集和粘合速率的影响以及抛光垫表面的几何特性的影响。

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