double patterning; SADP; core trim; etch loading; pattern density; OPC; photoresist top-loss; pattern fidelity;
机译:通过光学邻近校正掩模设计方法改善三角形排列LCD彩色滤光片中图案的保真度
机译:与晶圆处理,光学邻近校正和物理设计流程的双重图案交互
机译:评估对改进的NIATX流程改进策略来改善惩教设施中的改进策略
机译:SADP工艺光刻至蚀刻图案保真度校正的新方法
机译:开发用于统计过程控制中两个变量的模式识别方案的方法
机译:校正:微藻类中光受限光合生产的高保真建模方法
机译:图3:图像处理方法的流程图,包括实现变更检测研究的三个主要步骤,即:(1)图像预处理工作:几何复制(GR),图像配准(IR),最小鼻部分数(MNF)分析,辐射校正(RC),大气校正(AC)和地形校正(TC); (2)选择最佳技术进行变化检测; (3)准确评估以获得最终地图。
机译:用于NOss / LammR实时处理的天线模式校正和旁瓣补偿的上下文敏感公式