193i ArF photoresist; EUV photoresist; Line Edge Roughness (LER); Line Width Roughness (LWR); Photoresist smoothening; Photoresist trimming; PEALD;
机译:使用低温光致抗蚀剂模铸金属电镀技术制造和包装的惯性激活型微开关的设计与表征
机译:模拟光刻胶修整蚀刻工艺对光刻胶表面粗糙度的影响
机译:低温PEALD在柔性聚合物基板上的ZnO薄膜晶体管和电路
机译:探索用于修整和平滑193i光刻胶的低温PEALD技术
机译:先进的工艺技术,用于在集成电路制造中去除图案化的离子注入光刻胶
机译:LHC-II三聚体中的低温能量从光系统II的Chl a / b光收集天线转移。
机译:使用低温光致抗蚀剂模塑金属电镀技术制造和包装惯性激活电动微型开关的设计与表征