EUV resist; inorganic hardmask; interfacial interaction; adhesion promoter; adhesion failure; resist residue;
机译:NTD工艺在EUVL中亚20nm图案化EUV敏感Si硬掩模的影响和优化
机译:NTD工艺在EUVL中亚20nm图案化EUV敏感Si硬掩模的影响和优化
机译:边缘放置错误的基本原理和EUV的影响:传统的设计规则计算是否可以在EUV时代起作用?
机译:EUV抗蚀剂-无机硬掩模相互作用的基础
机译:EUV光致抗蚀剂暴露的二次电子相互作用
机译:基于光交联的光细胞 - 聚合物相互作用的基础BioPlilting.
机译:EUV敏感Si HardMask对NTD工艺EUVL eUVL型图案的影响及优化